Trägergas

Bei dem derzeit bevorzugten Verfahren zur Herstellung von Verbindungs-Halbleitern – MOCVD – werden die Ausgangsmaterialien außerhalb der Anlage in Gase umgewandelt und dann mit einem Trägergas in den Reaktor eingeführt. Die derzeit verbreitetsten Trägergase sind Wasserstoff und Stickstoff: Wasserstoff ist in hoher Reinheit herstellbar, und Stickstoff ist sehr reaktionsarm.