Dotieren

In der Elektronik- und Halbleitertechnik bezeichnet dotieren das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder in das Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises.

Da die Fremdatome Störstellen im Halbleitermaterial sind, lassen sich mit ihnen gezielt die Eigenschaften des Ausgangsmaterials verändern. In der Regel handelt es sich dabei um die Leitfähigkeit oder die Kristallstruktur.

Wenn beispielsweise die elektrische Leitfähigkeit von Halbleitern geändert werden soll, dann wird zwischen p- und n-Dotierung unterschieden. Bei der p-Dotierung werden Fremdatome eingebracht, die als Elektronen-Akzeptoren dienen. Es entsteht eine ortsfeste positive Ladung. Bei der n-Dotierung werden hingegen Elektronen-Donatoren eingebracht. Es entsteht eine ortsfeste negative Ladung.

Für die Änderung der elektrischen Leitfähigkeit bei gängigen Halbleiterbauelementen aus Silizium oder Germanium kommen für p-Gebiete beispielsweise Bor, Indium, Aluminium oder Gallium zum Einsatz. Für n-Gebiete werden hingegen Phosphor, Arsen oder Antimon verwendet.