Eine weitere Möglichkeit zur Dotierung des kompletten Wafers, die aber (noch) nicht zur Produktion angewendet wird, bestünde in der Nutzung von Kernreaktionen im Halbleitermaterial. Man bestrahlt das Substrat dabei zum Beispiel mit Neutronen die dort eine Reaktion verursachen, bei dem Dotieratome entstehen. Dabei wäre aber ein hoher Sicherheitsaufwand erforderlich und die Endprodukte der Kernreaktion müssten letztlich stabil sein.
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