- Grundlagen / Aufbau der Materie
- Elektrische Leitfähigkeit im Festkörper
- Anwendung von Halbleitern
- Prozessschritte Halbleiter-Produktion
- Das Grundsubstrat – der Wafer
- Dotierung
- Oxidation
- Abscheidung
- Metallisierung
- Strukturierung
- Ätztechnik
- Gliederung
Diffusion aus flüssiger Quelle
Hier wird das Trägergas zur Anreicherung durch eine Flüssigkeit wie Borbromid (BBr3) oder Phosphorylchlorid (POCl3) geblasen.
- Grundlagen / Aufbau der Materie
- Elektrische Leitfähigkeit im Festkörper
- Anwendung von Halbleitern
- Prozessschritte Halbleiter-Produktion
- Das Grundsubstrat – der Wafer
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