Ellipsometrie

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    Bei diesem Verfahren wird die Polarisation des reflektierten Lichts zur Schichtdickenbestimmung analysiert. Dazu lässt man linear polarisiertes Licht (bei dem das schwingende elektromagnetische Feld der Lichtwelle entlang einer fest definierten Achse ausgerichtet ist) auf den Wafer treffen. Bei der Reflektion an der Schicht wird die ursprüngliche Polarisation beeinflusst. Die Art der resultierenden Polarisation wechselt bei schräger Einstrahlung bei Änderung der Schichtdicke periodisch von linearer zu sogenannter zirkularer Polarisation, bei der die elektromagnetische Welle in kontinuierlich rotierender Richtung schwingt. Die Schichtdicke ist somit einer Messung zugänglich.

    Abb. 31: Darstellung des Strahlengangs bei der Ellipsometrie