Spektroskopie

Auch bei der Spektroskopie misst man die Intensität des am Wafer reflektierten Lichts, die aufgrund der Wegdifferenz der beiden Komponenten, die am Oxid bzw. am Substrat zurückgeworfen werden, von der Wellenlänge und von der Schichtdicke abhängt. Durch eine spektroskopische Bestimmung einer Wellenlänge bei der gerade die Bedingung zur Auslöschung der reflektierten Welle erfüllt ist, lässt sich die Schichtdicke sehr genau bestimmen.